第七届高性能特种光学薄膜技术及应用研讨会
时间：2015-11-18 08:00 至 2015-11-20 18:00
地点：成都
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第七届高性能特种光学薄膜技术及应用研讨会 已截止报名会议时间： 2015-11-18 08:00至 2015-11-20 18:00结束 会议规模：180人 主办单位： 国家自然基金委员会 中国光学工程学会 中国工程院电子信息学部 |
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会议通知
现代光学技术领域中，光学薄膜技术在需求的牵引下已经成为产业化技术, 它已涉及物理、化学、电子学、冶金学等学科，有着十分广泛的应用，尤其是在国防、通讯、航空、航天、电子工业、光学工业等方面有着特殊的应用。
第七届高性能特种光学薄膜技术及应用研讨会
为了推动我国高性能、高精度光学薄膜技术的发展，中国光学工程学会联合多家单位举办光学薄膜技术及应用交流会，将邀请该领域的知名专家和学者到会，并做专题讲座；向从事高端光学薄膜制造和特性测试技术等科技人员介绍最新的光学薄膜制造与检测技术进展，并进一步深入交流和探讨光学薄膜应用领域所取得的最新研究成果。机会难得，诚挚邀请光学薄膜技术领域的专家学者及企业界人士一同聆听大家报告、探讨最新研究成果。
主办单位：
中国工程院电子信息学部
国家自然基金委员会
中国光学工程学会
会议时间：2015.11.18-11.20
会议地点：四川成都
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主办方：中国光学工程学会
介绍：中国光学工程学会，英文名称是Chinese Society for Optical Engineering，缩写CSOE。学会秉承“创新、协同、求真、务实”的精神，将通过学术交流、成果展示、成果转化等多种形式，搭建一个产学研大平台，推动光学工程的技术创新、注重光学科技的成果转化、面向应用促进光学前沿的工程化。
主办方： 中国工程院电子信息学部
介绍：中国工程院电子信息学部隶属于中国工程院，工程院是我国工程技术界的最高荣誉性、咨询性学术机构，由院士组成，对国家重要工程科学与技术问题开展战略研究，提供决策咨询，致力于促进工程科学技术事业的发展。其主要任务是促进全国工程科学技术界的团结与合作，推动我国工程科学技术水平的不断提高，加强工程科学技术队伍和优秀人才的建设与培养，为国民经济的持续发展服务。
会议日程
（最终日程以会议现场为准）
2015年11月18日 全天报到
2015年11月19日-20日 专家特邀报告、交流
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会议嘉宾
（最终出席嘉宾以会议现场为准）
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张大伟
上海理工大学
主任
刘卫国
西安工业大学
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李红东
吉林大学
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王京献
西安北方杰瑞光电
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吴周令
合肥知常光电技术
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杨李铭
成都精密光学工程研究中心
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程勇
解放军武汉军械士官学校
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程鑫彬
同济大学
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季一勤
航天三院8358所
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刘定权
上海技术物理研究所
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李刚
中科院大连化物所
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王多书
中国航天科技集团公司510所
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谢启明
兵器211所
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李斌成
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熊胜明
成都光电所
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易葵
中科院上海光机所）
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会议门票
会议费：2600元/人。
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温馨提示
酒店与住宿:
为防止极端情况下活动延期或取消，建议“异地客户”与活动家客服确认参会信息后，再安排出行与住宿。
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