ZEMAX光学设计标准成像课程2019（6月武汉班）已截止报名
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会议时间： 2019-06-24 09:00至 2019-06-26 17:00结束

会议地点：武汉详细地址会前通知周边酒店预订

会议规模：20人

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ZEMAX光学设计标准成像课程2019（6月武汉班）宣传图

● 主办单位

光研科技南京有限公司 ZEMAX 软件大中华区代理商

南京理工大学电子工程与光电技术学院

新加坡光学与光子学学会OPSS

● 课程形式

讲师讲授与学员互动式教学，课程均采用小班授课模式，下机讨论并指导上机练习，教材与PPT同步教学，通过理论联系实际的方式对学员进行讲解。

●课程特色及内容

☆本课程为ZEMAX标准学习课程，专门针对刚接触ZEMAX或简单使用过ZEMAX的学员而设置，通过本课程密集培训和练习互动后，学员能达到独立轻松设计光学系统，并能分析、优化和公差评估。主要内容包括：

1、光学理论基础介绍，几何经典成像理论，像差理论，一阶光学与三阶光学计算像差，像差产生原因及平衡像差的方法。

2、光学系统中孔径、视场、光瞳、光阑、F/#、主光线/边缘等等光学术语解释。

3、光学系统设计实例，包括经典成像系统和无焦准直扩束系统的设计，从初始结构设计到最终系统分析、优化全过程。从简单的单透镜、双胶合设计到复杂的多重结构，变焦镜头、扫描镜头设计。

4、ZEMAX的优化技巧探讨，设定评价函数及评估系统性能的方法，优化操作函数的选择，玻璃材料的优化方法。

5、衍射光学理论，衍射极限系统分析，MTF传递函数定义及作为评价标准时对优化操作的要求。结合双高斯照相镜头实例进行MTF优化设计，像模拟功能实现对成像的实时模拟。

6、非旋转对称系统、多反射镜系统在ZEMAX中的模拟。使用坐标断点精确模拟系统偏心旋转的方法。结合扫描系统和离轴三反系统实例精细讲解分析。

7、多重组态介绍及多重组态系统案例分析。变焦系统，变倍系统案例分析。激光柱面镜优化方法。消热差分析。

8、光学系统公差分析，模拟实际加工及装配中产生的误差，预测系统的可制造性能以及能否达到设计要求的标准。公差分析和操作详细步骤，蒙特卡罗结果分析集阐释。

●课程说明

课堂上提供最新版的ZEMAX OpticStudio 正版软件，统一发送配套的培训教材

学员自带笔记本电脑，课程结束后颁发培训证书

为保证课程质量，课程均采用小班授课模式，请提前报名

ZEMAX光学设计标准成像课程2019（6月武汉班）

光研科技南京有限公司

ZEMAX标准成像课程表

时间	第一天	第二天	第三天
9:00-10:30 第一节	菜单功能面型定义和选择玻璃库自定义玻璃材料	坐标断点扫描系统实例折返系统实例	变焦镜头实例变倍扩束镜实例
10:30-10:45	Coffee break	Coffee break	Coffee break
10:45-12:00 第二节	一阶光学几何像差理论 Zemax中像差分析像差平衡	离轴抛物面反射镜序列棱镜模拟	热效应分析二元光学面消热差分析二元光学面消色差分析
12:00-14:00	Lunch break	Lunch break	Lunch break
14:00-15:30 第三节	单透镜设计优化方法选择采样及参考点选择操作数	衍射和MTF 双高斯镜头 MTF优化 Contrast优化	曲率套样板过程寻找最佳非球面公差分析过程公差操作数蒙特卡洛分析
15:30-15:45	Coffee break	Coffee break	Coffee break
15:45-17:00 第四节	双胶合透镜设计玻璃材料优化方法	像模拟功能双高斯镜头像模拟实例	问题解答培训总结