2022第四届中国深圳国际光刻胶材料展会将集中展示光刻胶材料行业的最新产品与技术，为企业树立品牌形象，促进贸易合作、市场开发，引领行业趋势，加强生产、研发、销售互动，深入洞悉国内外光刻胶材料及应用市场未来发展新风向，以发展的眼光挖掘未来光刻胶材料市场的新需求，创新展会内涵，全方位、多层次组织专业观众，我们竭力将此次展览会办成光刻胶材料展览会界同仁交流的舞台，推动光刻胶材料展览会科技创新、提供发展商机，着力打造互惠共赢的平台！

2022第四届中国深圳国际光刻胶材料展会定于2022年08月23日-25日于深圳国际会展中心举办CIME2022第四届深圳国际新材料展为主题展。下设胶粘剂及密封剂展、薄膜与胶带展、点胶技术及设备展同期将召开多场技术研讨会及活动，邀请国内外专家与参会代表前来互动交流，探讨行业发展趋势，分享各自取得的经验成果，同时也向国际光刻胶材料行业展再迈进坚实的一步！届时，热忱欢迎国内外的光刻胶材料企业及其相关行业人士前来参观与交流！

展览时间

报道布展：2022年08月21-22日                      开幕式: 2022年08月23日

展览展示：2022年08月23-25日                      撤  展: 2022年08月25日

参展范围：

1.PCB光刻胶、干膜光刻胶、湿膜光刻胶、LCD光刻胶、TFT正性胶、彩色光刻胶、黑色光刻胶、G线光刻胶、线光刻胶、KRF光刻胶、ARF光刻胶、CCD摄像头彩色滤光片光刻胶、MEMS光刻胶、触摸屏透明光刻胶、生物芯片光刻胶、LED光刻胶、半导体光刻胶等：

2.高粘度光刻胶、EUV光刻胶、干法光刻胶、化工艺光刻胶、半导体高端光刻胶、光刻胶配套试剂（PSPI）光刻胶、正性光刻胶、紫外线正胶、紫外线负胶、光刻胶光敏剂、光刻胶残胶收集装置、光刻胶专用化学品、光刻胶的显影和剥离、涂胶显影设备、彩色光刻胶、光敏聚酰亚胺、聚酰亚胺（PI）、光刻胶材料、光刻工艺材料、光刻胶单体材料、半导体化合物、光刻胶聚合物。

3.ASML光刻机、IC前道光刻机、紫外光刻机（EUV）光学、光刻设备、光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）光刻胶树脂、光刻胶去除剂、溶剂、螯合剂、 缓蚀剂、光致产酸剂、锆前驱体集、生产、检测等

专题研讨会：

★国内企业10000元/40分钟，外资企业3000美元/小时，提供：60-100人左右会议室、投影仪、屏幕、讲台、椅子、音响、纸、笔、饮用水、展前宣传等。

注：会刊版面规格（210mm ╳ 142.5mm)、进口铜版纸、四色精印、版面内容由展商自行设计。

1、参展单位详细填写好《参展合同表》并加盖公章，邮寄或传真至组委会；

2、组委会收到确认申请表，参展商于3个工作日内将参展费用50%或全款汇入组委会帐户，并将汇款凭证传真至组委会以便查对，否则不予保留预订展位。

3、展位安排以“先报名、先交款、先安排”为原则，组委会有权对少量展位予以调整；