第十四届全国MOCVD学术会议已截止报名
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会议时间： 2016-08-16 08:00至 2016-08-19 18:00结束

会议地点：延边朝鲜族自治州延边国际饭店友谊路118号（友谊路与局子街交汇口）周边酒店预订

主办单位：中国有色金属学会

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会议通知

金属有机化学气相淀积（MOCVD）技术自二十世纪六十年代提出以来，取得了飞速进步，目前已经在氮化物、砷化物、磷化物、碲化物和氧化物等重要半导体材料及其量子结构的制备上得到广泛应用，极大地推动了光电子器件和电子器件的发展和产业化，也成为半导体超晶格、量子阱、量子线、量子点结构材料与器件研究的关键技术。未来MOCVD技术的发展将会给化合物半导体科学技术和产业发展带来更为广阔的前景。

作为MOCVD生长技术和化合物半导体材料器件研发交流的平台，自1989年第一届会议举办以来，“全国MOCVD学术会议”已经成功举办了十三届，规模和影响越来越大，已成为全国学术界和产业界广泛关注的学术盛会。本次会议选择在具有朝鲜族民族特色的边疆开放城市，素有“歌舞之乡”美称的延吉市举行，来自大陆和台港地区的与会学者、工程师和企业家将在MOCVD生长技术、MOCVD设备研发、材料结构与物性、以及光电子、电力电子器件、微波射频器件研发等领域开展广泛交流，了解发展动态，促进相互合作。这次会议必将对我国MOCVD学术研究、技术进步和第三代半导体产业发展起到有力的推动作用。

主办方：中国有色金属学会

介绍：中国有色金属学会于1984年11月28日成立，是由我国有色金属行业及其相关行业的学者、科学技术人员和企业管理人员自愿结成的全国性的学术性、科普性、公益性社会团体，是发展我国有色金属科技事业的重要社会力量，是政府联系有色金属科技人员的纽带和桥梁。中国有色金属学会受中国科学技术协会的领导，是经中华人民共和国民政部依法登记的社会团体法人。学会的人、财、物由中国有色金属工业协会代管。